真(zhen)(zhen)空(kong)(kong)(kong)(kong)速(su)凝(ning)爐的(de)(de)(de)(de)(de)抽真(zhen)(zhen)空(kong)(kong)(kong)(kong)度(du)(du)(du)要達到(dao)多少 真(zhen)(zhen)空(kong)(kong)(kong)(kong)速(su)凝(ning)爐的(de)(de)(de)(de)(de)抽真(zhen)(zhen)空(kong)(kong)(kong)(kong)度(du)(du)(du)應(ying)根據具(ju)體(ti)工(gong)藝(yi)(yi)和(he)材料要求(qiu)(qiu)而定。以下(xia)是一些(xie)常(chang)見(jian)的(de)(de)(de)(de)(de)真(zhen)(zhen)空(kong)(kong)(kong)(kong)度(du)(du)(du)要求(qiu)(qiu)范(fan)圍(wei): 1.高(gao)真(zhen)(zhen)空(kong)(kong)(kong)(kong)區(qu)域(High Vacuum):通常(chang)要求(qiu)(qiu)在10^-3至10^-6帕(Pa)的(de)(de)(de)(de)(de)范(fan)圍(wei)內。這種(zhong)真(zhen)(zhen)空(kong)(kong)(kong)(kong)度(du)(du)(du)適用于(yu)許多金屬(shu)合金的(de)(de)(de)(de)(de)高(gao)溫處理(li)、晶體(ti)生長以及(ji)(ji)其他對(dui)氣體(ti)污(wu)染敏感(gan)的(de)(de)(de)(de)(de)工(gong)藝(yi)(yi)。 2.超高(gao)真(zhen)(zhen)空(kong)(kong)(kong)(kong)區(qu)域(Ultra-High Vacuum,UHV):通常(chang)要求(qiu)(qiu)在10^-6至10^-9帕的(de)(de)(de)(de)(de)范(fan)圍(wei)內。這種(zhong)真(zhen)(zhen)空(kong)(kong)(kong)(kong)度(du)(du)(du)適用于(yu)半導體(ti)器件制造(zao)、薄膜沉積、電子束物(wu)理(li)沉積(EB-PVD)等高(gao)精度(du)(du)(du)和(he)高(gao)純度(du)(du)(du)的(de)(de)(de)(de)(de)工(gong)藝(yi)(yi)。 需(xu)要注意(yi)的(de)(de)(de)(de)(de)是,實際的(de)(de)(de)(de)(de)真(zhen)(zhen)空(kong)(kong)(kong)(kong)度(du)(du)(du)目(mu)標可(ke)能(neng)會(hui)受(shou)到(dao)設備本身的(de)(de)(de)(de)(de)性能(neng)和(he)限制、工(gong)藝(yi)(yi)需(xu)求(qiu)(qiu)以及(ji)(ji)操作條件的(de)(de)(de)(de)(de)影響(xiang)。因此,在選擇和(he)操作真(zhen)(zhen)空(kong)(kong)(kong)(kong)速(su)凝(ning)爐時,應(ying)根據具(ju)體(ti)情況并參考(kao)相關的(de)(de)(de)(de)(de)工(gong)藝(yi)(yi)要求(qiu)(qiu),確定適當的(de)(de)(de)(de)(de)抽真(zhen)(zhen)空(kong)(kong)(kong)(kong)度(du)(du)(du)范(fan)圍(wei)。同時,還需(xu)注意(yi)確保真(zhen)(zhen)空(kong)(kong)(kong)(kong)系統的(de)(de)(de)(de)(de)密封性和(he)維護(hu),以保持所需(xu)的(de)(de)(de)(de)(de)真(zhen)(zhen)空(kong)(kong)(kong)(kong)度(du)(du)(du)水平。