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真空速凝爐
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HTCF-2000型高溫碳(tan)化(hua)爐主要用(yong)于碳(tan)碳(tan)復(fu)合(he)材(cai)料(liao)(liao)、碳(tan)碳(tan)/碳(tan)化(hua)硅(gui)復(fu)合(he)材(cai)料(liao)(liao)、以及碳(tan)纖維保溫材(cai)料(liao)(liao)等的(de)碳(tan)化(hua)處理(li)。性能(neng)特點(dian)1.結構形式：立式或臥式。
HTCF-2000型低溫碳(tan)化爐(lu)主要用于碳(tan)碳(tan)復合材料(liao)、碳(tan)碳(tan)/碳(tan)化硅(gui)復合材料(liao)、以(yi)及碳(tan)纖維保溫材料(liao)等的(de)碳(tan)化處理。性能(neng)特點1.結(jie)構形式：立式或臥式。
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