關于真空燒結爐的兩種結構介紹　　真空燒結爐采用耐熱鋼制造的真空罐放入電阻爐中，根據真空熱處理工藝的需要，配接適當的真空系統，即成為筒單的真空熱處理爐。是由電阻爐，真空罐硬和真空泵真空悶門、真空計等構成的真空系統。其熱源在真空的外部，也就是電熱元件設置在真空罐的外部，工件放在真空罐的內部，靠間接加熱。　　真空燒結爐有以下幾種結構：　　1.鐘罩式結構　　這種結構的真空缺座落在爐底上，整個真空熔煉爐爐底和真空罐可以借助于電動或液壓傳動升降，以完成裝出料操作并能縮短冷卻時間。也可以采取真空罐和爐底固定不動，罩式爐體升降的方法來完成進出料操作等，但是爐體升降較為復雜。采用哪一種方法，要根據現場實際情況而定。　　2.雙真空結構　　這種結構不僅真空罐內部被抽成真空，而且真空罐外部的真空熔煉爐爐體部分也被抽成真空。這樣，就可以減少真空鑲承受的壓力，避免真空罐外壁氧化和變形，延長了真空罐的使用壽命。　　在使用時還要注意，真空罐是真空燒結爐的關鍵性部件。由于真空罐須在高溫和一個大氣壓的外壓條件下工作，所以，真空罐的材料應具備良好的熱穩定性和耐氧化性，間接性能要好，焊縫不易產生氣孔、開裂，保證高溫氣密性。材料成分中的元素蒸氣壓要低，防止合金元素在高溫、高真空下揮發。

 　　氣相沉積爐的特點是什么 　　氣相沉積爐可用于以碳氫氣體為碳源的復合材料的化學氣相沉積。其中CVD沉積爐是指高溫下的氣相反應，例如，金屬鹵化物、有機金屬、碳氫化合物等的熱分解，氫還原或使它的混合氣體在高溫下發生化學反應以析出金屬、氧化物、碳化物等無機材料的方法。這種技術開始是作為涂層的手段而開發的，但目前，不只應用于耐熱物質的涂層，而且應用于高純度金屬的精制、粉末合成、半導體薄膜等，是一個頗具特征的技術領域。 　　設備特點在于：(1)在低溫下合成高熔點物質;(2)析出物質的形態在單晶、多晶、晶須、粉末、薄膜等多種;(3)不僅可以在基片上進行涂層，而且可以在粉體表面涂層，特別是在低溫下可以合成高熔點物質，在節能方面做出了貢獻，作為一種新技術是大有前途的。 　　下面小編詳細列舉幾條爐子的特點，以便大家能更好的了解爐子的性能。 　　氣相沉積爐工作區尺寸可達2.5m×2m×4.5m，能滿足超大型工件化學氣相沉積處理需求；并且，采用多溫區獨立控溫，溫度均勻性好； 　　與此同時采用特殊結構沉積室，密封效果好，抗污染能力強； 　　氣相沉積爐采用多通道沉積氣路，流場均勻，無沉積死角，沉積效果好； 　　氣相沉積爐對炭沉積過程中產生的焦油、固體粉塵、有機氣體等能進行有效處理。