氣相沉積爐的特點是什么
氣相沉(chen)積爐(lu)的特點(dian)是什么
氣相沉積爐可用(yong)于(yu)以碳氫(qing)氣(qi)(qi)體(ti)為碳源的(de)(de)(de)復合(he)(he)材料(liao)的(de)(de)(de)化(hua)學氣(qi)(qi)相沉積。其(qi)中CVD沉積爐是(shi)指高(gao)溫下的(de)(de)(de)氣(qi)(qi)相反應，例如，金屬鹵化(hua)物(wu)(wu)、有機金屬、碳氫(qing)化(hua)合(he)(he)物(wu)(wu)等(deng)的(de)(de)(de)熱分解，氫(qing)還(huan)原或(huo)使它的(de)(de)(de)混合(he)(he)氣(qi)(qi)體(ti)在高(gao)溫下發生化(hua)學反應以析(xi)出(chu)金屬、氧化(hua)物(wu)(wu)、碳化(hua)物(wu)(wu)等(deng)無機材料(liao)的(de)(de)(de)方法。這種技術開始是(shi)作為涂層的(de)(de)(de)手段而開發的(de)(de)(de)，但目(mu)前，不只應用(yong)于(yu)耐熱物(wu)(wu)質的(de)(de)(de)涂層，而且應用(yong)于(yu)高(gao)純度(du)金屬的(de)(de)(de)精制、粉(fen)末合(he)(he)成、半導體(ti)薄膜等(deng)，是(shi)一(yi)個頗具(ju)特(te)征的(de)(de)(de)技術領域。
設備特點(dian)在于(yu)：(1)在低溫下合(he)成高熔點(dian)物質(zhi)(zhi);(2)析出物質(zhi)(zhi)的(de)形態在單晶(jing)(jing)、多(duo)晶(jing)(jing)、晶(jing)(jing)須、粉末、薄(bo)膜(mo)等多(duo)種;(3)不僅可以(yi)在基(ji)片上進行(xing)涂層，而且可以(yi)在粉體(ti)表面涂層，特別(bie)是在低溫下可以(yi)合(he)成高熔點(dian)物質(zhi)(zhi)，在節能方面做出了貢(gong)獻，作為一種新(xin)技術是大有前途的(de)。
下面(mian)小(xiao)編詳細列舉幾(ji)條爐子的特點，以便大家能更好的了解爐子的性能。
氣相(xiang)沉積爐工作區尺寸(cun)可(ke)達2.5m×2m×4.5m，能(neng)滿足超大型工件化學氣相(xiang)沉積處理需求；并且，采用多(duo)溫區獨立控(kong)溫，溫度均勻(yun)性好；
與此同時采用特殊(shu)結構沉積室，密封效果好，抗污染能力強；
氣相沉(chen)(chen)積(ji)爐采用(yong)多通道沉(chen)(chen)積(ji)氣路，流場均勻，無沉(chen)(chen)積(ji)死角，沉(chen)(chen)積(ji)效果(guo)好；
氣相沉積爐(lu)對炭沉積過(guo)程中產生的焦油、固體(ti)粉塵、有機氣體(ti)等(deng)能進行有效處理。
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