真(zhen)(zhen)(zhen)(zhen)(zhen)空(kong)(kong)速凝(ning)爐的(de)(de)(de)(de)抽(chou)(chou)真(zhen)(zhen)(zhen)(zhen)(zhen)空(kong)(kong)度(du)(du)要達(da)到多(duo)少 真(zhen)(zhen)(zhen)(zhen)(zhen)空(kong)(kong)速凝(ning)爐的(de)(de)(de)(de)抽(chou)(chou)真(zhen)(zhen)(zhen)(zhen)(zhen)空(kong)(kong)度(du)(du)應根據(ju)具體(ti)(ti)工(gong)藝(yi)(yi)和(he)材料要求(qiu)而定。以(yi)下是一些(xie)常(chang)見(jian)的(de)(de)(de)(de)真(zhen)(zhen)(zhen)(zhen)(zhen)空(kong)(kong)度(du)(du)要求(qiu)范(fan)(fan)圍(wei)(wei): 1.高(gao)真(zhen)(zhen)(zhen)(zhen)(zhen)空(kong)(kong)區域(High Vacuum):通常(chang)要求(qiu)在(zai)(zai)10^-3至(zhi)10^-6帕(pa)(Pa)的(de)(de)(de)(de)范(fan)(fan)圍(wei)(wei)內。這種(zhong)真(zhen)(zhen)(zhen)(zhen)(zhen)空(kong)(kong)度(du)(du)適用(yong)于(yu)許多(duo)金屬合金的(de)(de)(de)(de)高(gao)溫處理、晶體(ti)(ti)生(sheng)長以(yi)及其他對氣(qi)體(ti)(ti)污染敏感的(de)(de)(de)(de)工(gong)藝(yi)(yi)。 2.超高(gao)真(zhen)(zhen)(zhen)(zhen)(zhen)空(kong)(kong)區域(Ultra-High Vacuum,UHV):通常(chang)要求(qiu)在(zai)(zai)10^-6至(zhi)10^-9帕(pa)的(de)(de)(de)(de)范(fan)(fan)圍(wei)(wei)內。這種(zhong)真(zhen)(zhen)(zhen)(zhen)(zhen)空(kong)(kong)度(du)(du)適用(yong)于(yu)半導體(ti)(ti)器件制造、薄膜(mo)沉(chen)積(ji)、電子束物理沉(chen)積(ji)(EB-PVD)等(deng)高(gao)精(jing)度(du)(du)和(he)高(gao)純(chun)度(du)(du)的(de)(de)(de)(de)工(gong)藝(yi)(yi)。 需要注意(yi)的(de)(de)(de)(de)是,實際的(de)(de)(de)(de)真(zhen)(zhen)(zhen)(zhen)(zhen)空(kong)(kong)度(du)(du)目標(biao)可能會受到設備本(ben)身(shen)的(de)(de)(de)(de)性能和(he)限制、工(gong)藝(yi)(yi)需求(qiu)以(yi)及操作條(tiao)件的(de)(de)(de)(de)影響(xiang)。因此,在(zai)(zai)選(xuan)擇(ze)和(he)操作真(zhen)(zhen)(zhen)(zhen)(zhen)空(kong)(kong)速凝(ning)爐時,應根據(ju)具體(ti)(ti)情(qing)況并參考相關的(de)(de)(de)(de)工(gong)藝(yi)(yi)要求(qiu),確定適當的(de)(de)(de)(de)抽(chou)(chou)真(zhen)(zhen)(zhen)(zhen)(zhen)空(kong)(kong)度(du)(du)范(fan)(fan)圍(wei)(wei)。同時,還需注意(yi)確保真(zhen)(zhen)(zhen)(zhen)(zhen)空(kong)(kong)系統的(de)(de)(de)(de)密封(feng)性和(he)維護(hu),以(yi)保持所需的(de)(de)(de)(de)真(zhen)(zhen)(zhen)(zhen)(zhen)空(kong)(kong)度(du)(du)水平。