真空甩帶爐各組成裝置的性能介紹 　　雖然，真空甩帶爐看起來并不大，但其結構也是相對復雜的，主要有真空腔體、熔煉裝置、噴鑄裝置、甩帶裝置、壓鑄裝置、模具預熱系統、抽真空系統、爐體支架、電氣控制系統及水冷卻系統組成。 　　1、真空腔體：由爐體、爐蓋和爐底組成;爐體由不銹鋼法蘭和內外筒體組焊而成，內壁鏡面拋光，爐體上開設有壓鑄接口、噴鑄接口、旋轉電極接口、甩帶收集管、紅外測溫接口、模具預熱電源電極引入接口;真空甩帶爐的爐蓋由整體實心加工而成，上面開設有大直徑觀察窗，可直觀的觀測到爐內的各種實驗情況;爐底也是由整體實心加工而成，固定有甩帶裝置。整體外觀啞光處理，整潔大方。 　　2、熔煉裝置：由 超音頻電源、水冷電纜、旋轉電極、線圈、保溫套和坩堝組成，通過更換線圈、保溫套和坩堝實現不同容量。真空甩帶爐的高溫溫度可加熱至1700℃。(容量按照50g,200g,500g,1000g來配)，熔煉完成后可通過手動傾倒到模具內。 　　3、噴鑄裝置：由氣缸、石英管、時間繼電器、氣源恒定裝置等組成，可實現小容量溶液的噴帶和噴鑄。(噴鑄配石英管，容量50g) 　　4、甩帶裝置：真空甩帶爐的甩帶裝置由噴鑄裝置、高速調速電機、磁流體密封裝置和銅棍等組成，可通過調節電機速度，實現不同銅棍線速度。 　　5、壓鑄裝置：由特殊加壓裝置、壓架、底座、壓頭和母模等組成，當溶液澆鑄或者噴鑄到母模內，啟動加壓裝置對工件加壓，提高其致密性。壓鑄底部壓頭有定位槽，保證上下壓頭同心度;底部壓頭可調節高度;整套壓力架支撐在地上。相對人性化的設計是在爐體底部有防漏盤，防止熔液損壞真空腔體。 　　6、模具預熱系統：為防止澆鑄到母模內的溶液冷卻過快，特在母模外部加裝感應線圈預熱，由一臺7.5Kw IGBT超音頻電源、水冷銅接頭和線圈等組成，如果不用預熱，也可取下感應線圈，用悶頭密封。預留有兩路進出水，水流量可通過流量計來控制(專門用于水冷銅模)。 　　7、抽真空系統：至于抽真空部分是由一臺擴散泵、一臺雙極直聯泵、三臺氣動擋板閥、真空管路和真空計等組成，冷態極限真空度優于6.67×10E-3Pa。 　　8、爐體支架：由型材和鋼板拼裝而成，真空甩帶爐門板全部采用數控加工，尺寸精度高，外表噴塑處理，整體布局合理，顏色搭配美觀。和電控柜采用一體結構。 　　9、電氣控制系統：各種電氣元器件采用國際知名品牌，按照行業標準制作而成。面板采用模擬屏，可直觀控制設備的各部件，并有水欠壓、斷水聲光報警并自動切斷加熱功能。 　　10、水冷卻系統：真空甩帶爐的冷卻系統由水冷機、各種閥門和水管等組成，帶有電接點水壓表，具有超壓、欠壓報警功能。

　　真空甩帶爐的結構特點　　真空甩帶爐是一種常用于半導體、光電子、新材料等領域的熱處理設備，具有以下結構特點：　　1.爐體結構：真空甩帶爐的爐體結構通常采用立式設計，由爐膛、耐熱隔熱層和外殼組成。爐膛內部通常采用高溫合金材料或陶瓷材料制成，能夠承受高溫和真空環境。　　2.甩帶機構：真空甩帶爐中的主要部件是甩帶機構。甩帶機構由驅動裝置、輸送帶和張緊裝置組成。輸送帶采用耐高溫的合金材料制成，并通過驅動裝置帶動輸送帶進行循環運動，以實現物料的連續輸送和熱處理。　　3.加熱系統：真空甩帶爐的加熱系統通常采用電阻加熱器、感應加熱器或輻射加熱器等方式。根據熱處理要求，加熱系統可提供各種加熱方式和分區控制，以實現對物料的精確控溫。　　4.真空系統：真空甩帶爐的真空系統用于提供所需的真空環境。真空系統包括真空泵、真空計、氣體冷凝器等設備，能夠實現高真空或中真空處理。　　5.控制系統：真空甩帶爐配備先進的控制系統，可對溫度、氣氛、輸送速度、真空度等參數進行實時監控和調節。控制系統通常采用PLC、觸摸屏等自動化設備，實現精確的熱處理過程控制和數據記錄。　　總體而言，真空甩帶爐具有結構緊湊、操作方便、加熱均勻、真空度高等特點。它可以實現對物料的連續處理和精確控溫，廣泛應用于高溫熱處理、石墨化、脫氣、退火等工藝過程。但是，具體結構特點還會受到不同制造商的設計和技術水平的影響，因此在選擇和使用真空甩帶爐時，還應考慮到實際需求和設備的性能指標。